В работе проанализированы диффузионные процессы элементов V группы в кремнии и с помощью метода «наименьших квадратов» получены выражения, удовлетворяющие экспериментальные результаты для диффузионных параметров.
Ключевые слова: кремний, диффузия, метод наименьших квадратов, энергия активации.
The diffusion processes of group V elements in silicon are analyzed and expressions satisfying the experimental results for diffusion parameters are obtained using the “least squares” method.
Key words: Silicon, diffusion, least squares method, the activation energy.
Интенсивное развитие производства полупроводников микроэлектронных изделий и интегральных схем привело к необходимости разработки новых или усовершенствованию, структуры и расширению функциональных возможностей широко используемых полупроводниковых материалов. В этом отношении по мнению, большинство исследователей и производителей один из надежных, технологически усвоением и наиболее обоснованным методом управления свойствами полупроводника является легирование его различными примесями в определенных концентрациях. Пространственное распределение примесей в кристаллическом кремнии имеет большое значение при формировании его электрофизических свойств. Однако, традиционные технологические методы определения распределения примесных атомов в кристаллах имеют ряд трудностей, поэтому исследование диффузионных процессов в кремнии и в других полупроводниковых материалах остается одной из актуальных проблем современной физики полупроводников и материаловедения.
Как известно [1, 2], экспериментальное определение коэффициентов диффузии примесных элементов в кремнии в качестве модели для расчета используется решение уравнения закона Фика и коэффициент диффузии может быть выражен в виде уравнения Аррениуса:
D=Dо exp (-E /kT), (1)
где Dо — предэкспоненциальный множитель, Е — энергия активации диффузии.
Элементы V группы периодической системы ведут себя в кремнии как доноры в зависимости от того, образуют ли они энергетические уровни вблизи зоны проводимости. Фосфор, мышьяк и сурьма являются наиболее важными донорными примесями в кремнии. Первые данные по диффузии фосфора, мышьяка и висмута в кремнии были получены Фуллером и Диценбергером для температур 1050÷1250 оС. В качестве источника диффундирующего вещества использовался элементарный фосфор, параметры диффузии измерялись по методу p-n-перехода. Диффузия сурьмы в кремнии была впервые исследована Данлепом и др. при температурах 900÷1300 оС. Характеристики диффузии измеряли методом p-n-перехода и радиоактивным методом [4, 5].
В данной работе рассматриваются диффузионные параметры элементов V группы периодической системы. Экспериментальные данные взяты из работы [3] и проанализированы предэкспоненциальные множители и энергии активации элементов в зависимости от порядкового номера элементов в периодической системе.
Экспериментальные и расчетные результаты приведены на рис. 1-а, б и в таблице 1:
а)
б)
Рис. 1. а), б). Диффузионные параметры элементов V группы периодической системы в зависимости от порядкового номера. эксперимент, непрерывная линия результаты расчета
Таблица 1
Диффузионные параметры элементов Vгруппы периодической системы
в зависимости от порядкового номера.
Элемент |
Z |
D0, см2/с |
E, эВ |
|||
эксперимент |
Результаты расчета |
эксперимент |
Результаты расчета |
|||
N |
|
2700 |
2700 |
2,9 |
3,02 |
|
P |
15 |
0,0001 |
9,97E-05 |
2,09 |
2,2 |
|
V |
23 |
0,009 |
0,009 |
1,55 |
1,59 |
|
As |
33 |
35 |
35 |
4 |
3,66 |
|
Sb |
51 |
0,214 |
0,214 |
3,65 |
3,7 |
|
Bi |
83 |
0,0002 |
0,0002 |
3,5 |
3,49 |
|
Из анализа графиков экспериментальных зависимостей предэкспоненциального множителя и энергии активации от порядкового номера выявлены, что оны зависят от Z как f(Z3):
E=AEZ3+BEZ2+CEZ+DE, (2)
Do=ADZ3+BDZ2+CDZ+DD (3)
и коэффициенты A, B, C и D определены по методу наименьших квадратов.
В результате получены для Do:
AD=-0,013, BD= 1,42, CD=-36,54, DD= 277,80;
для Е:
AE=-0,0017, BE= 0,017, CE=-0,11, DE= 3,35.
Значения 2D= 3,4710–5, 2E= 1,1510–3, показывающие точность расчетов, а также графики и таблица, свидетельствуют о правильности выбора метода и расчета.
Таким образом, в данной работе были изучены экспериментальные результаты для диффузионных параметров элементов V группы периодической системы в кремнии и получены единые полуэмпирические выражения, определяющие предэкспоненциального множителя и энергии активации в зависимости от порядкового номера. Полученные выражения позволяют прогнозировать и легко вычислить экспериментально неопределеные диффузионные параметры элементов V группы.
Литература:
- Б. И. Болтакс Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках, Л. Наука, 1972.
- Окисление, диффузия, эпитаксия, под ред. Р.Бургера и Р.Донована, М. Мир, 1069, 451 с.
- D. J. Fisher Diffusion in Silicon 10 Years of Research. 2013.
- С.Зайнабидинов Физические основы образования глубоких уровней в кремнии, Ташкент, Фан, 1984.
- С.Зайнобидинов, М.Носиров, Ж. Алиева О коэффициентах диффузии 3d элементов в кремнии, Узб. Физ. Жур., 2003, № 1, 69–71.
- Ж.Бургуэн, М.Ланно Точечные дефекты в полупроводниках. Теория. М.: Мир, 1984, 265 с.